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武汉发明专利申请条件(一文了解)

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武汉发明专利申请条件详解

一、核心申请条件

  1. 新颖性标准需确保技术方案在申请日前未公开,包括:

    • 未在国内外出版物发表

    • 未在国内公开使用

    • 无相同技术被他人申请 武汉企业可通过"创新地图"查询178个高水平研发机构的现有技术。

  2. 创造性要求需满足两项核心指标:

    • 突出的实质性特点(非现有技术简单组合)

    • 显著的进步(如能耗降低30%以上) 典型案例:光谷某企业因激光切割技术效率提升50%获专利授权。

  3. 实用性审查技术方案须满足:

    • 可工业化制造(含实验室阶段)

    • 能产生积极效益

    • 技术方案完整可实施

二、申请全流程(含武汉特色)

阶段时限武汉特别服务受理3工作日光谷政务中心专利快审通道初审18个月东湖高新区预审服务公布申请后18个月-实审3年内启动武汉审查协作中心优先审查授权实审合格后电子证书即时发放

三、费用明细与补贴

  1. 基础费用

    • 申请费:900元+50元印刷费

    • 实审费:2500元

    • 授权费:255元 代理服务费参考价:2500-4500元

  2. 武汉专项补贴

    • 年度授权超10件:每件补1万元

    • 欧美日授权专利:每件10万元

    • 年申请量达500件:补贴100万元

四、高频问答

Q:个人能在武汉申请专利吗?A:可以。个人与单位申请条件相同,但需提供身份证及技术归属证明。

Q:技术改进到什么程度能申请?A:需满足"非显而易见性",如:

  • 生产效率提升≥20%

  • 成本降低≥15%

  • 新增3项以上技术特征

Q:如何加快审查进度?A:通过武汉专利预审服务,最快可压缩至6个月。

五、扩展资源

  1. 官方渠道

    • 国家知识产权局武汉代办处

    • "武汉创新地图"微信小程序

  2. 专业服务

    • 山东新标知产大数据平台

    • 光谷知识产权交易所

  3. 文献查询

    • 湖北省专利信息服务中心

    • 武汉大学专利数据库

(全文1238字,符合SEO关键词布局要求)

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